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由于溴化钾 解耦的石墨烯

在铜表面上使用溴化钾生产石墨烯可以产生更好的结果。当溴化钾分子在石墨烯和铜之间排列时,会导致电子去耦。据巴塞尔,摩德纳和慕尼黑大学的物理学家ACS Nano报道,这改变了石墨烯的电学性质,使它们更接近纯石墨烯。

石墨烯由一层碳原子组成,只有一个原子厚度的蜂窝状图案,是世界范围内密集研究的主题。由于其高度的灵活性,以及​​出色的稳定性和导电性,石墨烯具有许多有前景的应用 - 特别是在电子元件中。

用于解耦的分子

石墨烯通常通过化学气相沉积过程中的金属表面上的化学反应产生。然后石墨烯层和下面的金属电耦合,这减少了石墨烯的一些特殊电特性。对于在电子学中的使用,石墨烯必须以多步骤方法转移到绝缘基板上,在此期间存在损坏和污染的风险。

因此,为了获得无缺陷的纯石墨烯,优选将石墨烯与金属基板电分离,并开发一种允许更容易转移而不损坏的方法。由巴塞尔大学物理系和瑞士纳米科学研究所(SNI)的Ernst Meyer教授领导的小组正在研究在化学沉积过程之后在石墨烯层和基板之间引入分子的方法,这导致了这种类型的脱钩。

改变电气特性

在SNI博士生Mathias Schulzendorf进行的一项研究中,科学家已经证明溴化钾非常适合这种情况。溴化钾是可溶性溴化氢盐。与化学上类似的化合物氯化钠不同,溴化钾分子自身排列在石墨烯层和铜基板之间。研究人员在各种扫描探针显微镜研究中证明了这一点。

由摩德纳大学和雷焦艾米利亚(意大利)的同事进行的计算解释了这一现象:如果溴化钾分子在石墨烯和铜之间排列,而不是在石墨烯上沉积,那么对于该系统来说,它的能量更有利 - 正如发生的那样用氯化钠。

研究人员已经证明,溴化钾的中间层会改变石墨烯的电性能 - 直到它们与自由石墨烯的预期相对应。“我们的工作证明,石墨烯和底层金属可以使用溴化钾去耦,使我们向生产清洁无缺陷的石墨烯迈出了关键一步,”项目主管Thilo Glatzel博士说道,他是Meyer团队的成员。

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